集成电路加工的主要工艺步骤
1、晶圆制造和沉积这步主要是将晶体进行切片、研磨、抛光、包裹和运输这几步完成初加工。而沉积是利用化学方式,将晶圆表面气体分子形成沉积混合物的一种工艺技术

3、热处理和研磨通过热处理方式,将晶体内应力进行消除。通过用化学和机械研磨手段,将抛光沉积层进行研磨,达到更加平坦方便进行光刻精度和精细程度提高。

5、封装和成品晶圆上的芯片被切成单个芯片进行封装,经过成品检测手段,对芯片进行出厂前的最后检测,符合要求即可出厂。

1、晶圆制造和沉积这步主要是将晶体进行切片、研磨、抛光、包裹和运输这几步完成初加工。而沉积是利用化学方式,将晶圆表面气体分子形成沉积混合物的一种工艺技术
3、热处理和研磨通过热处理方式,将晶体内应力进行消除。通过用化学和机械研磨手段,将抛光沉积层进行研磨,达到更加平坦方便进行光刻精度和精细程度提高。
5、封装和成品晶圆上的芯片被切成单个芯片进行封装,经过成品检测手段,对芯片进行出厂前的最后检测,符合要求即可出厂。